Китай построит гигантский завод по производству чипов, управляемых ускорителем частиц

Китай изучает новые возможности обхода ограничений на литографическое оборудование, которое используется в производстве микрочипов.

Команда из Университета Цинхуа ведет переговоры с властями нового района Сюнъань, чтобы выбрать площадку для строительства огромной фабрики. На ней будет размещаться несколько литографических машин вокруг одного ускорителя. Длина контура составит около 100-150 м, по площади это примерно две баскетбольные площадки. Его луч превратится в высококачественный источник света для производства очень «тонких» чипов.

Работы над проектом идут с 2017 года. Команда уже провела первый этап проверки на метрологическом источнике света (MLS) в Берлине в 2019 году. Эксперимент оказался успешным, в 2021 году о нем опубликовали статью в Nature. В 2022 году ученые разработали еще один прототип в Университете Цинхуа. Из-за большого внимания к проекту исследователи перестали комментировать информацию СМИ.

В настоящее время 7-нм чипы производятся с применением EUV-литографии (глубокий ультрафиолет). Этой технологией владеет только одна компания в мире — нидерландская ASML, поэтому она доминирует на рынке, но доступ к ней Китаю ограничен.

Нововведение может способствовать масштабному и недорогому производству чипов. Проект сможет вывести Китай на лидирующие роли в промышленном производстве более передовых чипов — 2-нм.

@ekdme

Источник: t.me